中微公司获得发明专利授权:“半导体零部件及其涂层形成方法”
创始人
2026-09-11 06:49:48
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“半导体零部件及其涂层形成方法”,专利申请号为CN202311559819.7,授权日为2026年9月8日。

专利摘要:本发明公开了一种半导体零部件及其涂层形成方法,所述半导体零部件包括:零部件本体;第一耐蚀刻涂层,位于零部件本体表面;第二耐蚀刻涂层,沉积于第一耐蚀刻涂层的表面上,所述第二耐蚀刻涂层与第一耐蚀刻涂层化学键合连接;其中,第二耐蚀刻涂层为结晶态氟氧化钇涂层,所述第一耐蚀刻涂层的热膨胀系数介于所述零部件本体表面和结晶态氟氧化钇涂层的热膨胀系数之间。从而提高了结晶态涂层与基底的结合力,避免了涂层开裂脱落,提高了涂层耐刻蚀性能。

今年以来中微公司新获得专利授权116个,与去年同期持平。结合公司2026年中报财务数据,今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元,同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析,中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了31家企业,参与招投标项目92次;财产线索方面有商标信息131条,专利信息1745条,著作权信息13条;此外企业还拥有行政许可88个。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,不构成投资建议。

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