国家知识产权局信息显示,华为技术有限公司申请一项名为“半导体制造设备”的专利,公开号CN122497330A,申请日期为2025年1月。
专利摘要显示,本申请实施例提供一种半导体制造设备,涉及半导体制造技术领域,用于防止供电装置和金属机台之间出现打火现象。半导体制造设备包括金属机台、静电卡盘和供电装置。静电卡盘包括电极接口。供电装置包括绝缘基座、导电座、接口连接部和胶层。绝缘基座设置于金属机台。导电座设置于绝缘基座背离金属机台的一侧。接口连接部设置于导电座背离绝缘基座的一侧,接口连接部电连接电极接口和导电座。导电座通过胶层粘接于绝缘基座。通过设置胶层,使得导电座与绝缘基座能够更加致密的连接,减少了导电座和绝缘件之间的尖端三相点,进而能够防止供电装置和金属机台之间出现打火现象,降低了静电卡盘加载偏高压的耐压性能,提升了静电卡盘的安全性和可靠性。
天眼查资料显示,华为技术有限公司,成立于1987年,位于深圳市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本4114113.182万人民币。通过天眼查大数据分析,华为技术有限公司共对外投资了51家企业,参与招投标项目44066次,财产线索方面有商标信息14527条,专利信息128114条,此外企业还拥有行政许可1730个。
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来源:市场资讯