国家知识产权局信息显示,武汉理工大学、四方光电(武汉)仪器有限公司申请一项名为“一种衰荡腔可调的腔镜端盖”的专利,公开号CN121679847A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明公开了一种衰荡腔可调的腔镜端盖,其为回转结构并且具有一中心轴,包括镜筒、镜座、反射镜、固定件和调节件,镜筒具有一沿轴向延伸的通孔以及多个沿周向分布的调节孔,通孔的内壁形成有安放凸台,调节孔沿径向延伸并且连通通孔以及镜筒的外侧面;镜座内置于通孔内并且与安放凸台抵接,镜座形成安装通孔;反射镜设置于安装通孔内;固定件与镜筒固定连接并且能够向镜座施加压力,以配合安放凸台压紧镜座;调节件与调节孔一一对应连接并与镜座抵接,调节件可在调节孔内沿中心轴的径向移动以调节镜座的姿态。与现有技术相比,本发明提供的腔镜端盖将气密承载与俯仰调节解耦,在保持腔体全程气密的前提下,实现腔端镜的高稳定俯仰微调。
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来源:市场资讯