佰为深科技申请传感器及干涉测量系统专利，实现压力与温度的同时高精度测量_半导体

佰为深科技申请传感器及干涉测量系统专利，实现压力与温度的同时高精度测量

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2026-02-12 09:43:34

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国家知识产权局信息显示，北京佰为深科技发展有限公司申请一项名为“一种传感器、其制造方法及包含其的干涉测量系统”的专利，公开号CN121498756A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本公开涉及一种传感器、其制造方法及包含其的干涉测量系统。传感器包括：基部，所述基部的第一端部设置压力敏感膜片，与所述第一端部相对的所述基部的第二端部的端面与中空管固定连接；压力感应腔，形成在所述基部的第一端部和所述压力敏感膜片之间，且由所述基部的第一端部和所述压力敏感膜片封闭，所述压力感应腔的腔长根据待测压力的变化而变化；温度感应腔，形成在所述中空管中的入射光纤及所述温度感应腔的反射端面之间，所述温度感应腔的腔长根据待测温度的变化而变化；所述温度感应腔与所述压力感应腔沿光由所述入射光纤出射的方向相对设置。

天眼查资料显示，北京佰为深科技发展有限公司，成立于2016年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本490.9435万人民币。通过天眼查大数据分析，北京佰为深科技发展有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息11条，专利信息22条，此外企业还拥有行政许可2个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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