华星光电申请疏水膜及疏水膜的使用方法专利，凹槽可引导疏水膜表面的液滴滑动
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2025-11-24 09:36:52
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国家知识产权局信息显示，深圳市华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“疏水膜及疏水膜的使用方法”的专利，公开号CN 120993537 A，申请日期为2024年5月。专利摘要显示，本申请公开了一种疏水膜及疏水膜的使用方法。疏水膜包括硬化层，所述硬化层包括基底和设于所述基底上的凸起结构，所述凸起结构包括沿第一方向间隔设置的多个条状凸起，相邻的所述条状凸起之间形成凹槽，所述凹槽用于引导所述疏水膜表面的液滴滑动；疏水层，所述疏水层设置于所述基底和所述凸起结构上。本申请实施例相邻的条状凸起之间形成凹槽，凹槽用于引导疏水膜表面的液滴滑动。
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来源：市场资讯
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