碧水源申请低压差型半导体工业膜元件制备方法专利，保持半导体用膜元件在较长时间内有机物去除率处于稳定水平_半导体

碧水源申请低压差型半导体工业膜元件制备方法专利，保持半导体用膜元件在较长时间内有机物去除率处于稳定水平

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2026-01-10 09:08:49

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国家知识产权局信息显示，北京碧水源分离膜科技有限公司申请一项名为“低压差型半导体工业膜元件制备方法”的专利，公开号CN121288566A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明提供一种低压差型半导体工业膜元件制备方法，属于膜元件制备技术领域，优化膜元件结构，从进水格网的几何结构进行优化，选择适中的厚度、网格数、入水角，达到降低流体阻力，减小元件压降，降低能耗的目的；低压差进水格网增加水流湍动强度，增加水流速度，有效冲刷膜表面有机富集物，减少膜表面有机污染物，可保持半导体用膜元件在较长时间内有机物去除率处于稳定水平。本发明有效冲刷膜表面有机富集物，减少膜表面有机污染物，可较长时间保持膜表面清洁度，从而减缓有机物去除率降低趋势，可保持半导体用膜元件在较长时间内有机物去除率处于稳定水平，大幅度减小清洗频率，延长使用寿命。

天眼查资料显示，北京碧水源分离膜科技有限公司，成立于2019年，位于北京市，是一家以从事生态保护和环境治理业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，北京碧水源分离膜科技有限公司参与招投标项目55次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息50条，此外企业还拥有行政许可35个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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